Luận văn Chế tạo màng móng Sì3N4, SiO2 và màng treo sì3n4 bàng phương pháp láng đọng hơi hóa học tàng cường Plasma

(Bản scan)

MỚ ĐÀU 1

CHƯƠNG I: TÔNG QUAN 3

1.1.Giới iĩ/íẹu tống quan về màng móng SÌ3N4. S1O2 và màng treo SÌ3N4 3

1.1.1Màng mỏng SÌ.3N4 3

1.1.2Màng mong SÍƠ2 4

1.1.3Màng treo siêu móng 6

1.2.Tinh hình nghiên cứu trong và ngoải nước 8

1.3.Các phương pháp chế tạo màng móng SÌ3N4. SiOj và màng treo siêu mông

SÌ3N4 trên đế silic 8

CHƯƠNG II: THỰC NGHIỆM VÀ CÁC PHƯƠNG PHÁP NGHIẾN CỬU 12

2.1.Quá trình chế tạo vật liệu 12

2.1.1.Giới thiệu máy sứ dụng trong quá trinh thực nghiệm 12

2.1.1.1. Giới thiệu máy PECVD 12

2.1.1.2. Máy quang khắc 12

2.1.2.Quá trinh lăng đọng màng móng băng plasma 13

2.1.3. Quá trình ăn mòn màng mỏng bằng plasma 16

2.1.4.Quá trình ăn mòn đế silic bàng KOH 19

2.2.Quá trình chế tạo màng treo Si)N4 trẽn đế silic 20

2.3.Các phương pháp nghiên cứu 23

2.3.1.Tính chắt hõa học 23

2.3.2.Tính chát quang 28

2.3.3.Tinh chắt cơ học 32

2.3.4.Tính chắt bề mặt 33

CHƯƠNG III: KẾT QUÁ VÀ THÁO LUẬN 35

3.1.Kết quã kháo sát cũa màng mông Si 3N4 35

3.2.Kèt quà kháo sát cùa màng mòng Siơ» 45

3.3.Kháo sát tốc độ ăn mòn cùa mãng móng hăng plasma 54