LỜI CAM ĐOAN . i
LỜI CẢM ƠN. ii
MỤC LỤC. iii
DANH MỤC CÁC TỪ VIẾT TẮT. vii
DANH MỤC HÌNH. ix
DANH MỤC BẢNG. xiv
MỞ ĐẦU . 1
CHưƠNG 1. TỔNG QUAN. 4
1.1. Kim loại nặng và tác hại của chúng. 4
1.1.1. Các nguồn gây ô nhiễm kim loại nặng trong môi trường. 4
1.1.2. Tính chất và tác hại của một số kim loại nặng . 5
1.1.2.1. Cadimi . 6
1.1.2.2. Chì . 7
1.2. Các phương pháp xác định lượng vết kim loại Cd, Pb. 8
1.2.1. Phương pháp quang phổ hấp thụ phân tử (UV-Vis). 8
1.2.2. Phương pháp quang phổ hấp thụ nguyên tử (AAS) . 9
1.2.3. Phương pháp phổ khối plasma cao tần cảm ứng (ICP-MS). 10
1.2.4. Phương pháp phân tích điện hóa . 10
1.3. Một số điện cực làm việc trong phương pháp phân tích điện hóa . 11
1.3.1. Điện cực cacbon. 13
1.3.2. Điện cực màng bitmut . 15
1.3.3. Điện cực vàng. 15
1.3.4. Điện cực Platin . 16
1.3.4.1. Các phương pháp chế tạo Pt nano. 18
1.3.4.2. Ứng dụng của Pt nano . 20
1.4. Mô hình hóa thực nghiệm bậc 2 đa nhân tố . 25
1.5. Đánh giá tổng quan về tình hình nghiên cứu trong và ngoài nước liên
quan đến luận án . 27
CHưƠNG 2. PHưƠNG PHÁP NGHIÊN CỨU VÀ THỰC NGHIỆM . 30
2.1. Thiết bị và dụng cụ. 30
2.2. Hóa chất. 31
168 trang |
Chia sẻ: honganh20 | Ngày: 03/03/2022 | Lượt xem: 441 | Lượt tải: 1
Bạn đang xem trước 20 trang tài liệu Luận án Nghiên cứu chế tạo điện cực nano platin trên nền glassy cacbon ứng dụng phân tích Pb, Cd trong môi trường nước, để xem tài liệu hoàn chỉnh bạn click vào nút DOWNLOAD ở trên
bề mặt và độ nhám bề mặt. Đối với điện cực
nền GC, RMS trung bình là 672,82 nm. Trái ngược với bề mặt nhẵn và đồng nhất
của điện cực GC, hình ảnh AFM ở hình 3.8b cho biết hình thái của bề mặt điện cực
Pt/GC 0,2 V, một lượng lớn các điểm đã hình thành và phân bố đều khắp bề mặt
điện cực. Hình thái của bề mặt điện cực Pt/GC ở điện thế -0,2 V được thể hiện trong
hình 3.8c, trên bề mặt điện cực cũng hình thành một lượng lớn các điểm, tuy nhiên
chúng dường như có hình dạng khác và chiều cao của các điểm cao hơn nhiều so
với những gì được quan sát ở bề mặt điện cực Pt/GC điện thế 0,2 V. Bề mặt điện
cực Pt/GC -0,2 V sở hữu giá trị RMS (777,09 nm) cao hơn so với bề mặt điện cực
Pt/GC 0,2 V (730,53 nm). Và dựa vào đồ thị (hình 3.9) cho thấy khi độ nhám của bề
mặt càng lớn thì diện tích hoạt động điện hóa của điện cực càng lớn. Điều này có
nghĩa điện cực Pt/GC chế tạo ở -0,2 V sẽ cho diện tích hoạt động điện hóa tốt hơn
49
điện cực Pt/GC chế tạo ở 0,2 V và GC. Kết quả này sẽ được xác nhận lại một lần
nữa ở các nghiên cứu tiếp theo.
Hình 3.9. Mối quan hệ giữa độ nhám (RMS) với diện tích hoạt động điện hóa của
điện cực (Ahd)
3.2.1.4. Tính chất khuếch tán và độ thuận nghịch của phản ứng điện hóa trên điện
cực Pt/GC
a. Dạng đường Von-Ampe và tính chất khuếch tán trên điện cực Pt/GC
Khi khuếch tán chiếm vai trò chủ yếu trong chuyển khối của quá trình điện cực,
thì lượng chất tham gia trao đổi electron trên bề mặt điện cực cũng được quyết định
bởi chính giai đoạn này. Do đó, sự khuếch tán các chất hoạt động điện hóa đến bề
mặt điện cực quyết định tính chất điện hóa của điện cực, tức là quyết định đến dạng
đáp ứng Von-Ampe của phản ứng điện hóa trên điện cực trong các phép đo Von-
Ampe. Ngược lại, dạng đường Von-Ampe thu được trên các điện cực có thể đưa ra
các thông tin về bản chất của sự khuếch tán chất điện hoạt đến bề mặt điện cực [98,
113].
Đường Von – Ampe quét thế vòng (CV) của các điện cực Pt/GC trong dung
dịch K3[Fe(CN)6] xuất hiện píc khử ở vị trí thế 0,2 V, píc này ứng với sự khử Fe
3+
→ Fe2+. Píc oxi hóa xuất hiện trên đường Von-Ampe ở vị trí thế khoảng 0,31 V ứng
với sự oxi hóa Fe2+ → Fe3+ (hình 3.10).
50
Hình 3.10. Đường CV của điện cực Pt/GC trong dung dịch K3[Fe(CN)6] 5 mM/
PBS 0,2 M pH=7 theo sự tăng dần của tốc độ quét
Từ kết quả dạng đường Von-Ampe ghi được cho thấy khuếch tán đến toàn bộ
bề mặt điện cực là dạng khuếch tán phẳng bao phủ toàn bộ điện cực chứa các thành
phần nano. Trong quá trình xảy ra phản ứng điện hóa, sự khuếch tán phẳng của các
chất điện hoạt đến bề mặt điện cực không kịp bù đắp lại lượng chất đã tiêu hao, do
đó dòng đo được giảm dần về giá trị 0 khi thời gian đo kéo dài và kết quả là đường
Von-Ampe quét thế vòng thu được sẽ có dạng píc. Trên một điện cực, giá trị dòng
píc và thế đỉnh píc thu được phụ thuộc vào tốc độ quét thế hay độ thuận nghịch của
hệ điện hóa [113].
Giá trị dòng pic (Ip) của phản ứng thuận nghịch tại 25°C được đưa ra bởi phương
trình Randles- Sevcik:
Ip = (2,69.10
5
). n
3/2
. A. D
1/2. C. ν1/2 (3.1)
Trong đó, Ip: dòng pic (A) F: hằng số Faraday
A: diện tích điện cực (cm2) D: hệ số khuếch tán (cm2/s)
C: nồng độ (mol/cm3) ν tốc độ quét thế (V/s)
n: số electron trao đổi trong quá trình oxi hóa khử
Tức là, dòng pic tỉ lệ thuận với nồng độ chất phản ứng và căn bậc hai của tốc độ
quét thế khi khuếch tán đến điện cực là dạng phẳng. Và, tỉ lệ Ipa/Ipc
=1 đối với cặp
oxi hóa/khử đơn giản [72].
y = 594.24x + 2.69
R² = 0.993
0
100
200
300
400
0 0.2 0.4 0.6 0.8
I (
μ
A
)
V1/2
51
Kết quả về dòng pic trên điện cực Pt/GC tính được từ các đường Von-Ampe trên
hình 3.10 và kết quả tỉ lệ dòng pic anot và catot (Ipa/Ipc) theo sự thay đổi tốc độ quét
thế trên điện cực Pt/GC chỉ ra ở bảng 3.2.
Bảng 3.2. Kết quả tỉ lệ dòng pic anot và catot (Ipa/Ipc) theo sự thay đổi tốc độ quét
thế trên điện cực Pt/GC
v (V/s) v
1/2
Ipa (μA) Ipc (μA) Ipa/Ipc
0,01 0,1 72,88 62,57 1,16
0,025 0,158 104,21 96,61 1,07
0,05 0,224 138,90 136,23 1,02
0,1 0,316 188,93 191,18 0,99
0,2 0,447 260,44 255,62 1,02
0,3 0,548 319,48 348,57 0,92
0,4 0,632 359,56 369,11 0,97
Theo các kết quả trình bày trên bảng 3.2, tỉ lệ chiều cao của píc oxi hóa và píc
khử tại các tốc độ quét thế đều gần bằng một, tức là giá trị dòng pic theo chiều quét
oxi hóa và khử là gần như tương đương nhau. Giá trị dòng píc có tương quan tuyến
tính với căn bậc hai của tốc độ quét thế theo phương trình: Ipc= 594,24. v
1/2
+ 2,69,
với hệ số xác định tốt (R2 = 0,993). Theo như lí thuyết vừa trình bày, các tính chất
này là phù hợp với đặc tính của một phản ứng thuận nghịch, tức là phản ứng oxi hóa
khử của hệ thuận nghịch điện hóa, Fe3+/Fe2+, xảy ra thuận lợi trên điện cực Pt/GC.
Như vậy điện cực đã chế tạo hoạt động điện hóa tốt.
b. Diện tích hoạt động điện hóa của điện cực Pt/GC chế tạo ở các EPt khác nhau
Theo các tài liệu nghiên cứu về sensor trước đây [72, 114 - 116] để xác định
diện tích hoạt động điện hóa (Ahd) của điện cực các tác giả đã tính toán dựa vào
phương trình Randles- Sevcik. Giá trị dòng píc đo được trên đường Von-Ampe (píc
được sử dụng tính toán là píc khử Fe3+ → Fe2+, có giá trị dòng píc là Ipc).
Trong nghiên cứu này, dung dịch điện li sử dụng là K3[Fe(CN)6] 5 mM pha
trong đệm photphat 0,2 M, pH = 7 với các thông số sử dụng để tính toán theo
phương trình Randle-Sevcik là: C = 5.10-6 (mol/ cm3); D = 5,69.10-6 (cm2/s) [117];
v = 0,10 (V/s); n = 1. Kết quả được chỉ ra ở bảng 3.3 và hình 3.11.
52
Bảng 3.3. Diện tích hoạt động điện hóa của điện cực Pt/GC với EPt khác nhau
GC Pt/GC
EPt (V) 0,2 0,0 -0,2 -0,3 -0,5
Ipc .10
-6
(A) 44,11 150,63 156,61 186,41 164,31 95,59
Ahd. 10
-2
(cm
2
) 4,35 14,86 15,45 18,39 16,21 9,43
Hình 3.11. Đường CV của điện cực Pt/GC chế tạo ở các EPt khác nhau trong dung
dịch K3[Fe(CN)6] 5 mM pha trong đệm photphat 0,2 M, pH = 7, tốc độ quét thế 0,1
V/s và đồ thị diện tích hoạt động điện hóa của điện cực Pt/GC theo EPt
Kết quả từ bảng 3.3 và hình 3.11 cho thấy diện tích hoạt động điện hóa của điện
cực tăng lên đáng kể khi các điện cực nền được biến tính bằng lớp nano platin, đặc
biệt là lớp nano platin dạng hình hoa được tạo thành khi chế tạo ở thế áp -0,2 V.
Diện tích hoạt động điện hóa của các điện cực Pt/GC tăng dần theo chiều giảm của
thế điện kết tủa (EPt) từ 0,2 V đến -0,2 V và sau đó giảm đến điện thế -0,5 V. Điều
này có thể được lí giải là do khi áp thế âm hơn -0,2 V thì có thể xảy ra hiện tượng
kết tủa nhanh làm cho lượng kết tinh Pt trên bề mặt tăng lên, kích thước hạt cũng
tăng theo dẫn đến diện tích bề mặt giảm xuống. Sự biến đổi này (có thể được quan
sát rõ hơn trên đồ thị trong hình 3.11) là phù hợp với sự biến đổi của chiều cao píc
khử Fe3+ trên đường Von-Ampe ghi được.
53
3.2.1.5. Cường độ dòng đỉnh hòa tan của Pb trên điện cực Pt/GC chế tạo ở EPt khác
nhau
Để chọn được EPt phù hợp cho quá trình chế tạo điện cực Pt/GC và ứng dụng
vào phân tích ion kim loại nặng trong môi trường nước bằng phương pháp Von-
Ampe hòa tan anot xung vi phân (DPASV), chúng tôi tiến hành ghi đo đường Von-
Ampe hòa tan của Pb trên các điện cực Pt/GC chế tạo ở các EPt khác nhau. Kết quả
được chỉ ra ở hình 3.12.
Hình 3.12. Đường DPASV của Pb ghi đo trên điện cực Pt/GC chế tạo ở các EPt
ĐKTN: [Pb2+] = 10 ppb trong nền đệm axetat 0,1M (pH 4,5), thời gian điện phân làm giàu
120 s tại - 1,1 V; khoảng quét thế từ -1,0 V đến -0,2 V với biên độ xung 60 mV, bề rộng
xung 30 ms và bước thế là 5 mV.
Kết quả thu được cho thấy cường độ dòng đỉnh hòa tan (Ip) của Pb trên điện cực
Pt/GC chế tạo ở -0,2 V là lớn nhất, nguyên nhân có thể là do ở điều kiện này nano
platin hình thành trên điện cực nền có dạng hình hoa nên diện tích hoạt động điện
hóa của điện cực là lớn nhất, do đó -0,2 V được chọn là EPt tối ưu cho quá trình biến
tính GC bằng các hạt nano platin và ứng dụng vào phân tích ion kim loại nặng trong
nước.
3.2.2. Ảnh hưởng của thời gian điện kết tủa tạo platin (tPt)
3.2.2.1. Ảnh hưởng của tPt đến hình thái học bề mặt điện cực
Ảnh SEM của điện cực Pt/GC với thời gian điện kết tủa tạo platin (tPt) khác
nhau được chỉ ra ở hình 3.13. Theo như kết quả ở hình 3.13, khi chưa biến tính thì
bề mặt điện cực nền GC trơn, nhẵn và bóng, khi điện phân tạo platin ở điện thế cố
định -0,2 V trong thời gian 50 s, các hạt platin bắt đầu được hình thành và nằm rải
rác trên nền điện cực. Khi thời gian điện phân tăng lên đến 100 s, nhiều mầm tinh
thể mới được hình thành trên bề mặt điện cực, do đó mật độ các hạt nano platin đã
54
dày đặc hơn, tuy nhiên chưa xen phủ kín được bề mặt than thủy tinh. Khi thời gian
điện phân tạo platin tăng lên 150 s, lúc này nano platin có hình dạng là những bông
hoa, mật độ xen kẽ của những bông hoa dày hơn và phân bố đều khắp bề mặt. Khi
thời gian tăng lên đến 200 s, 300 s kích thước các bông hoa platin tăng lên và không
đồng đều, lúc này xảy ra hiện tượng kết đám, co cụm các tiểu phân platin tạo thành
nhiều lớp hạt, nằm chồng lắp lên nhau.
Như vậy, để thu được lớp nano platin dạng cấu trúc hình hoa phủ kín điện
cực nền thì thời gian tối ưu cho việc điện phân kết tủa platin lên điện cực glassy
cacbon diện tích 0,071 cm2 là 150 s tại thế -0,2 V.
55
Hình 3.13. Ảnh SEM của điện cực Pt/GC với thời gian điện kết tủa tạo platin khác
nhau: (a) 0 s; (b) 50 s; (c) 100 s; (d) 150 s; (e) 200 s; (f) 300 s
3.2.2.2. Ảnh hưởng của tPt đến thành phần bề mặt điện cực Pt/GC
Để xác định thành phần các nguyên tố có mặt trên bề mặt điện cực Pt/GC theo
tPt khác nhau chúng tôi đã nghiên cứu phổ tán xạ năng lượng tia X của điện cực
Pt/GC ở các điều kiện tPt khác nhau. Kết quả thu được dưới đây:
Hình 3.14. Phổ tán xạ năng lượng tia X của điện cực Pt/GC theo thời gian tạo platin
(tPt) khác nhau
Theo kết quả phân tích phổ tán xạ năng lượng tia X (EDX) của bề mặt điện cực
Pt/GC theo thời gian tạo platin (tPt) khác nhau cho thấy phổ EDX thu được có 2
đỉnh được gán cho C (0,28 keV) và Pt (2,10 keV). Kết quả cho thấy khi thời gian
tạo platin (tPt) tăng thì tỷ lệ % khối lượng Pt trên bề mặt điện cực tăng.
3.2.2.3. Diện tích hoạt động điện hóa của điện cực Pt/GC chế tạo ở các tPt khác nhau
56
Tương tự như mục 3.2.1.4 diện tích hoạt động điện hóa (Ahd) của điện cực
Pt/GC chế tạo ở các tPt khác nhau được tính theo phương trình Randle – Sevcik. Kết
quả được chỉ ra ở hình 3.15 và bảng 3.4.
Bảng 3.4. Diện tích hoạt động điện hóa của điện cực Pt/GC với tPt khác nhau
GC Pt/GC
50s 100s 150s 200s 300s
Ipc.10
-6
(A) 44,11 106,23 120,21 186,85 121,40 120,86
Ahd.10
-2
(cm
2
) 4,35 10,48 11,86 18,43 11,98 11,92
Hình 3.15. Đường CV của Pt/GC chế tạo ở các tPt khác nhau trong dung dịch
K3[Fe(CN)6] 5 mM pha trong đệm photphat 0,2 M, pH = 7, tốc độ quét thế 0,1 V/s
Theo kết quả bảng 3.4, so với diện tích hoạt động điện hóa trên điện cực nền
GC, diện tích hoạt động điện hóa (Ahd) của các điện cực Pt/GC tăng lên và tăng dần
theo chiều tăng của tPt từ 50 s đến 150 s, sau đó giá trị này giảm xuống khi tPt là 200
s, 300 s. Sự biến đổi này (có thể được quan sát rõ hơn ở hình 3.15) là phù hợp với
sự biến đổi của chiều cao píc khử Fe3+ trên đường Von-Ampe ghi được.
Như vậy, khi thời gian tạo platin tăng, lượng platin kết tủa lên điện cực nền
tăng, nhưng không đồng nghĩa với việc diện tích bề mặt điện cực sẽ tăng lên. Hiện
tượng giảm dòng pic, tương đương với giảm diện tích hoạt động điện hóa của bề
mặt điện cực xảy ra khi thời gian điện phân kết tủa platin tăng lên đến 200 s, 300 s
là do khi tăng tPt lên 200 s, 300 s xảy ra hiện tượng kết đám nên bề mặt điện cực
hình thành các khối platin tập trung. Lúc này, tổng diện tích của bề mặt platin bị
giảm đi. Ngoài ra, thời gian tạo platin dài làm mật độ các bông hoa tăng lên, khoảng
trống giữa chúng hẹp dần, gây khó khăn cho việc khuếch tán các chất điện hoạt vào
các lớp sâu bên trong của điện cực platin để tham gia phản ứng điện hóa trên các
57
lớp bên trong này. Tức là, có thể diện tích bề mặt platin lớn, nhưng phản ứng điện
hóa không xảy ra trên toàn bộ diện tích này. Vì thế, diện tích hoạt động điện hóa
của điện cực bị giảm theo.
Như vậy, điện phân tạo các hạt nano platin hình hoa trên nền GC trong thời
gian 150 s sẽ thu được bề mặt có diện tích hoạt động điện hóa lớn nhất.
3.2.2.4. Cường độ dòng đỉnh hòa tan của Pb trên điện cực Pt/GC chế tạo ở các tPt
khác nhau
Để chọn được tPt phù hợp cho quá trình chế tạo điện cực Pt/GC và ứng dụng
vào phân tích ion kim loại nặng trong nước bằng phương pháp Von-Ampe hòa tan
anot xung vi phân (DPASV), chúng tôi tiến hành ghi đo đường Von-Ampe hòa tan
của Pb trên các điện cực Pt/GC chế tạo ở các tPt khác nhau. Kết quả được chỉ ra ở
hình 3.16.
Hình 3.16. Đường DPASV của Pb ghi đo trên điện cực Pt/GC chế tạo ở các tPt khác nhau
ĐKTN: [Pb2+] = 10 ppb trong nền đệm axetat 0,1M (pH 4,5), thời gian điện phân làm giàu
120 s tại - 1,1 V; khoảng quét thế từ -1,0 V đến -0,2 V với biên độ xung 60 mV, bề rộng
xung 30 ms và bước thế là 5 mV.
Kết quả thu được cường độ dòng đỉnh hòa tan (Ip) của Pb đạt cực đại trên điện
cực Pt/GC chế tạo ở tPt là 150 s, có thể do trên bề mặt điện cực Pt/GC lúc này các
hạt platin nano hình hoa được phân bố khá đồng đều và mật độ xen kẽ của những
bông hoa tốt nên thu được bề mặt điện cực có diện tích hoạt động điện hóa là lớn
nhất, kết quả này cũng đã được chỉ ra ở bảng 3.4, do đó cường độ dòng đỉnh hòa tan
(Ip) của Pb trên điện cực chế tạo ở điều kiện này là lớn nhất. Vì vậy, 150 s được
chọn là tPt tối ưu cho quá trình biến tính GC bằng các hạt nano platin hình hoa
(PtNFs/GC).
3.2.3. Ảnh hưởng của việc khuấy trộn dung dịch đến cấu trúc bề mặt điện cực
58
Ở cùng một chế độ điện hóa điện phân tạo platin lên các điện cực nền GC, khi
không có sự khuấy trộn của dung dịch trong quá trình điện phân, các hạt platin sắp
xếp trên bề mặt điện cực nền không được đồng đều, có nhiều vùng hơn của điện cực
không có sự hình thành tinh thể Pt so với khuấy trộn dung dịch. Điều này là do các
bề mặt điện cực nền GC có các vùng có độ hoạt động khác nhau, những tinh thể Pt
ban đầu được hình thành trên các vị trí bề mặt hoạt động tốt hơn gọi là các mầm
tinh thể. Sau đó, theo thời gian kết tủa, sự phát triển của các hạt Pt là ưu tiên hơn
trên các mầm tinh thể này từ đó làm cho bề mặt glassy cacbon không được che phủ
đồng đều.
Hình 3.17. Ảnh SEM ở các độ phân giải khác nhau của điện cực Pt/GC chế tạo ở
chế độ không khuấy (a) và khuấy (b)
Khi có sự khuấy trộn dung dịch điện phân, tốc độ khuấy là 50 vòng/phút [118]
số lượng mầm tinh thể hình thành trên bề mặt điện cực tăng, hình thành được cấu
trúc hình hoa với nhiều cánh hoa do đó làm cho diện tích hoạt động điện hóa tăng
hơn so với việc không khuấy dung dịch điện phân cụ thể diện tích hoạt động điện
hóa của điện cực thu được khi khuấy trộn dung dịch lớn hơn 1,53 lần so với diện
tích hoạt động điện hóa của điện cực thu được khi không khuấy trộn dung dịch (tính
theo phương trình Randle – Sevcik trong K3[Fe(CN)6]). Thêm vào đó, sự đối lưu
59
cho việc khuấy dung dịch đã giúp các phần tử Pt(IV) từ lòng khối dung dịch điện
phân được vận chuyển đến bề mặt điện cực tốt hơn, khi đó nồng độ ion tại ranh giới
bề mặt điện cực – dung dịch được đồng nhất và cân bằng với nồng độ ion trong
lòng dung dịch trong suốt quá trình điện phân tạo Pt. Do đó, khi có sự khuấy trộn
dung dịch điện phân, các hạt Pt hình thành cấu trúc hình hoa sắp xếp đều trên bề
mặt điện cực nền. Như vậy yêu cầu trong quá trình biến tính điện cực bằng các hạt
nano platin là phải có sự khuấy trộn dung dịch để thu được bề mặt với cấu trúc
mong muốn và che phủ tốt bề mặt nền.
3.2.4. Độ ổn định của tín hiệu điện hóa trên các điện cực PtNFs/GC đã chế tạo
Khả năng làm việc điện hóa của điện cực là tiêu chí để đánh giá chất lượng của
một điện cực làm việc. Khả năng làm việc ổn định của điện cực được kiểm tra qua
sự trao đổi điện tử trên lớp ranh giới bề mặt điện cực – dung dịch điện li. Khi quét
CV trong khoảng thế U1 = -0,2 V và U2 = 1,6 V trong dung dịch H2SO4 0,5 M, ban
đầu lớp platin bề mặt sẽ bị oxi hóa thành Pt oxit theo chiều quét anot, khi phân cực
ngược lại, dạng oxi hóa của platin lập tức được khử trở lại thành platin kim loại, píc
khử ở vị thế khoảng 0,5 V (so với điện cực Ag/AgCl), điều này phù hợp với các
công bố trước đây về điện cực platin [79, 119].
60
Hình 3.18. Đường CV của điện cực PtNFs/GC trong H2SO4 0,5 M chế tạo ở thế
(EPt) khác nhau (a); ở thời gian (tPt) khác nhau (b); đo lặp lại 10 lần (c)
Việc quét thế vòng (CV) trong dung dịch H2SO4 thường được sử dụng để kiểm
tra khả năng hình thành lớp platin trên điện cực nền. Như vậy, một điện cực nền khi
có lớp platin kết tủa lên trên, đường phổ CV trong môi trường axit H2SO4 0,5 M
cũng xuất hiện dạng đặc trưng của sự oxi-hóa khử platin (hình 3.18). Chiều cao pic
khử cũng được sử dụng để đánh giá sơ bộ lượng Pt kết tủa trên điện cực nền. Ngoài
ra, quá trình oxi hóa và khử ngược trở lại khiến cho lớp bề mặt của điện cực được
làm mới, như vậy quá trình này còn được sử dụng để hoạt hóa các điện cực Pt để có
được bề mặt hoạt động tốt nhất trước khi sử dụng cho các phép đo điện hóa khác.
Theo đó, phương pháp Von – Ampe quét thế vòng (CV) ở khoảng thế (-0,2
÷1,60 V) trong dung dịch H2SO4 0,5 M thu được đường đặc trưng của vật liệu Pt
với sự oxi hóa Pt bắt đầu xảy ra ở thế 0,8 V và sự khử trở lại của các ion platin có
thế đỉnh píc ở khoảng 0,5 V và các đường đo lặp lại tốt khi đo nhiều lần chứng tỏ bề
mặt điện cực ổn định (hình 3.18c). Vì vậy, điện cực PtNFs/GC cần được làm sạch
và hoạt hóa bề mặt bằng việc quét nhiều vòng trong dung dịch H2SO4 0,5 M trước
khi sử dụng cho các nghiên cứu khác để thu được các đường Von-Ampe ổn định, có
độ lặp lại cao.
3.3. Ứng dụng điện cực PtNFs/GC trong phân tích ion kim loại nặng
3.3.1. Tín hiệu Cd, Pb trên điện cực PtNFs/GC
Chúng tôi cũng tiến hành nghiên cứu tín hiệu Cd, Pb trên điện cực PtNFs/GC
so với điện cực nền GC bằng thí nghiệm tiến hành ghi đo đường Von-Ampe hòa tan
anot (DPASV) của Cd, Pb trên điện cực GC và PtNFs/GC trong cùng điều kiện. Phổ
đồ DPASV của điện cực GC và PtNFs/GC khi có mặt và không có mặt của Cd, Pb
được chỉ ra ở hình 3.19.
61
Hình 3.19. Đường DPASV của Cd, Pb trên điện cực GC và PtNFs/GC
ĐKTN: [Cd2+, Pb2+] = 20 ppb trong nền đệm axetat 0,1M (pH 4,5), thời gian điện phân làm
giàu 150 s tại - 1,0 V; khoảng quét thế từ -1,0 V đến -0,2 V với biên độ xung 50 mV, bề
rộng xung 30 ms và bước thế là 5 mV.
Theo kết quả thu được cho thấy đường DPASV của điện cực PtNFs/GC có
cường độ dòng đỉnh hòa tan của Cd là Ip = 4,52 ± 0,12 (µA), của Pb là 8,59 ± 0,16
(µA), cao hơn gần 4,0 lần so với cường độ dòng đỉnh hòa tan của Cd, Pb trên điện
cực nền GC. Khảo sát độ lặp lại của Cd, Pb trên điện cực PtNFs/GC thu được
RSDCd = 1,51%, RSDPb = 1,38% (n=5), tốt hơn nhiều so với trên GC: RSDCd =
6,24%, RSDPb = 5,37% (n=5). Qua đó có thể kết luận, điện cực PtNFs/GC chế tạo
được có độ nhạy cao hơn và độ lặp lại tốt hơn so với điện cực nền GC.
3.3.2. Tối ưu hóa các yếu tố ảnh hưởng đến tín hiệu Von-Ampe hòa tan của Cd,
Pb bằng phương pháp đơn biến
3.3.2.1. Ảnh hưởng của nền điện li
Thành phần và nồng độ nền điện li quyết định độ lớn của hệ số khuếch tán, độ
nhớt của môi trường do đó ảnh hưởng lớn đến quá trình điện phân làm giàu và quá
trình Von-Ampe hòa tan. Vì vậy, chúng tôi nghiên cứu ảnh hưởng của nền điện li
đến tín hiệu Von-Ampe hòa tan của ion kim loại cần nghiên cứu.
Với mong muốn lựa chọn một dung dịch làm thành phần nền phù hợp cho việc
phân tích Cd, Pb bằng phương pháp Von-Ampe hòa tan anot sử dụng điện cực
Pt/GC, chúng tôi tiến hành ghi đo đường Von-Ampe hòa tan của Cd (8,93.10-8 M =
10 ppb) và Pb (4,83.10
-8
M = 10 ppb) với 4 thành phần nền khác nhau: KCl/HCl 0,1
M, đệm axetat 0,1 M, đệm photphat 0,1 M và đệm Britton-Robinson 0,1 M. Tùy
thuộc vào điều kiện môi trường mà Cd, Pb có thể tồn tại các dạng khác nhau. Ion
của chì, cadimi không bền trong môi trường kiềm và trung tính, do đó dung dịch
điện li được sử dụng trong phân tích chì, cadimi phải có tính axit, với lại môi trường
62
axit mạnh cũng không thuận lợi cho phân tích Cd, Pb trên điện cực PtNFs/GC vì dễ
thoát khí H2 ảnh hưởng đến kết quả đo, do đó thực nghiệm nghiên cứu chỉ quan tâm
trong khoảng pH = 2 – 6.
a. Sự phụ thuộc của các dạng tồn tại của chì, cadimi vào pH dung dịch
Giả sử sự phụ thuộc của các dạng nồng độ chì trong dung dịch KCl/HCl
Chì trong dung dịch KCl/HCl xảy ra những cân bằng sau:
Pb
2+
+ Cl
-
PbCl+ K1
Pb
2+
+ 2Cl
-
PbCl2
K2
Pb
2+
+ 3Cl
-
PbCl3
-
K3
Pb
2+
+ 4Cl
-
PbCl4
2-
K4
Pb
2+
+ H2O PbOH
+
+ H
+ η
+
1 2+ -
PbCl
K =
Pb Cl
;
2
2 2
2+ -
PbCl
K =
Pb Cl
;
3
3 3
2+ -
PbCl
K =
Pb Cl
;
2
4
4 4
2+ -
PbCl
K =
Pb Cl
;
+ +
2+
PbOH H
η=
Pb
2+ + - 2- +2 3 4 0Pb + PbCl + PbCl + PbCl + PbCl + PbOH =C
Đặt: 2+Pb = x ; PbCl = y
; 2PbCl = z ; 3PbCl = t
;
2
4PbCl = u
; PbOH = v
Ta có:
1 -
y
K =
x. Cl
(1); 2 2
-
K =
x. Cl
z
(2); 3 3
-
K =
x. Cl
t
(3); 4 4
-
K =
x. Cl
u
(4);
.
=
x
v H
(5); x + y + z + t + u + v = Co (6)
Giải 6 phương trình 6 ẩn ta được:
+
0
2 3 4
+ - + - + - + - +
1 2 3 4
C . H
x =
H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +η
(7)
+ -
1 0
2 3 4
+ - + - + - + - +
1 2 3 4
K .C . H Cl
y =
H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +η
(8)
2
+ -
2 0
2 3 4
+ - + - + - + - +
1 2 3 4
K .C . H Cl
z =
H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +η
(9)
63
3
+ -
3 0
2 3 4
+ - + - + - + - +
1 2 3 4
K .C . H Cl
t =
H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +η
(10)
4
+ -
4 0
2 3 4
+ - + - + - + - +
1 2 3 4
K .C . H Cl
u =
H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +η
(11)
0
2 3 4
+ - + - + - + - +
1 2 3 4
.C
v =
H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +K . Cl . H +η
(12)
b. Dạng tồn tại chủ yếu của Cd, Pb trong các nền điện li
64
Bảng 3.5. Nồng độ của các dạng tồn tại của chì, cadimi trong nền KCl/HCl theo pH
pH Pb
2+
PbCl
+
PbCl2 Pb(OH)
+
Cd
2+
CdCl
+
CdCl2 Cd(OH)
+
2,0
2,2
2,6
3,0
3,2
3,6
4,0
4,2
4,6
5,0
5,2
5,6
6,0
6,2
6,6
7,0
7,2
7,6
8,0
8,2
8,6
9,0
9,2
9,6
10,0
1,70. 10
-8
1,68. 10
-8
1,67. 10
-8
1,66. 10
-8
1,66. 10
-8
1,66. 10
-8
1,66. 10
-8
1,66. 10
-8
1,66. 10
-8
1,66. 10
-8
1,66. 10
-8
1,66. 10
-8
1,65. 10
-8
1,65. 10
-8
1,63. 10
-8
1,58. 10
-8
1,54. 10
-8
1,39. 10
-8
1,11. 10
-8
9,26. 10
-9
5,34. 10
-9
2,35. 10
-9
1,41. 10
-9
4,08. 10
-10
8,82. 10
-11
2,71. 10
-8
2,72. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,73. 10
-8
2,72. 10
-8
2,71. 10
-8
2,68. 10
-8
2,61. 10
-8
2,54. 10
-8
2,29. 10
-8
1,83. 10
-8
1,53. 10
-8
8,80. 10
-9
3,88. 10
-9
2,32. 10
-9
6,72. 10
-10
1,45. 10
-10
3,88. 10
-9
3,92. 10
-9
3,96. 10
-9
3,98. 10
-9
3,98. 10
-9
3,98. 10
-9
3,99. 10
-9
3,99. 10
-9
3,99. 10
-9
3,98. 10
-9
3,98. 10
-9
3,98. 10
-9
3,97. 10
-9
3,96. 10
-9
3,91. 10
-9
3,80. 10
-9
3,70. 10
-9
3,34. 10
-9
2,67. 10
-9
2,22. 10
-9
1,28. 10
-9
5,65. 10
-10
3,38. 10
-10
9,79. 10
-10
2,12. 10
-11
2,31. 10
-14
3,67. 10
-14
9,22. 10
-14
2,32. 10
-13
3,67. 10
-13
9,22. 10
-13
2,32. 10
-12
3,67. 10
-12
9,22. 10
-12
2,32. 10
-11
3,67. 10
-11
9,21. 10
-11
2,31. 10
-10
3,64. 10
-10
9,05. 10
-10
2,21. 10
-9
3,41. 10
-9
7,73. 10
-9
1,55. 10
-8
2,05. 10
-8
2,97. 10
-8
3,28. 10
-8
3,12. 10
-8
2,27. 10
-8
1,23. 10
-8
1,40. 10
-8
1,39. 10
-8
1,37. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
1,36. 10
-8
Các file đính kèm theo tài liệu này:
- luan_an_nghien_cuu_che_tao_dien_cuc_nano_platin_tren_nen_gla.pdf