MỤC LỤC
Trang
DANH MỤC CÁC BẢNG . 4
DANH MỤC CÁC HÌNH VẼ. 5
MỞ ĐẦU. 7
CHƯƠNG I: TỔNG QUAN VỀ MÁY GIA TỐC UERL – 10 - 15S2 .9
1.1 Giới thiệu máy gia tốc UERL – 10 – 15S2 [5].9
1.2 Khối che chắn bức xạ [5] .13
1.3 Hệ thống chiếu xạ [4] [5] .15
1.4 Klystron [4] [5] .18
CHƯƠNG II: TƯƠNG TÁC ELECTRON VỚI VẬT CHẤT [1] .20
2.1 Sự mất năng lượng do ion hoá .20
2.2 Sự mất mát năng lượng do bức xạ .21
2.3 Sự mất năng lượng do bức xạ Synchrotron .23
2.4 Sự mất bức xạ do bức xạ Cherenkov.25
CHƯƠNG III: ĐÁNH GIÁ AN TOÀN CÁC THIẾT KẾ CHE CHẮN CỦA THIẾT
BỊ UERL -10 – 15S2.28
3.1 Tầm của electron trong vật chất [2].28
3.2 Khả năng phát bức xạ hãm của chùm electron phát từ thiết bị [4] .30
3.3 Tính toán cơ bản của thiết kế che chắn bức xạ cho hệ thống chùm electron [6].31
3.4 Kết quả tính toán phân bố liều bằng phương pháp mô phỏng dùng phần mềm
MCNP (4C) .44
3.5 Kết quả thực nghiệm đo suất liều cho thiết kế che chắn UERL -10 – 15S2 .59
80 trang |
Chia sẻ: mimhthuy20 | Lượt xem: 572 | Lượt tải: 1
Bạn đang xem trước 20 trang tài liệu Luận văn Đánh giá an toàn bức xạ đối với máy gia tốc uerl - 10 - 15s2, để xem tài liệu hoàn chỉnh bạn click vào nút DOWNLOAD ở trên
ng chân không phát ra bức xạ điện từ. Tuy
nhiên, giới hạn này sẽ được loại bỏ khi hạt chuyển động trong môi trường có chiết
suất n>1. Trong trường hợp này, vận tốc của ánh sáng trong môi trường là c’ = c/n
<c. Khi đó vận tốc v của hạt trong môi trường không những bằng với vận tốc của
ánh sáng c’ trong môi trường mà còn có thể vượt qua nó.
n
ccv =′≥ (2.16)
Dễ thấy, đối với v = c’, điều kiện (2.13) sẽ thoả đối với những bức xạ điện từ
phát chính xác theo chiều chuyển động của hạt ( )00=θ . Đối với v > c’, điều kiện
(2.13) sẽ thoả đối với chiều mà dọc theo đó 'cos' cvv == θ . Nó cũng chính là hình
chiếu của vận tốc v trên chiều này. Như thế trong môi trường có n >1, những định
luật bảo toàn cho phép một hạt tích điện chuyển động thẳng đều với vận tốc
n
ccv =′≥ mất phần năng lượng dE và động lượng dp của nó bằng cách phát ra dưới
dạng sóng điện từ truyền trong môi trường ở góc θ . Chúng ta có thể sử dụng
nguyên lý Huyghens để xây dựng mặt sóng đối với các sóng bức xạ. Giả sử sau
khoảng thời gian t hạt ở vị trí x = vt, chúng ta dựng mặt sóng bao những sóng cầu
phát ra trên đường đi của hạt từ điểm x = 0 đến x. Bán kính của sóng ở vị trí x = 0
tại thời điểm t là bằng Ro = c’t, trong khoảng thời gian này bán kính ở vi trí x là
27
0' =
−=
v
xtcRx . Đối với điểm [ ]xx ,0'∈ bán kính của sóng sau khoảng thời gian
t này là
−=
v
xtcRx
''' , tức là bán kính của sóng giảm tuyến tính theo sự gia tăng
của x’. Dễ thấy rằng mặt phủ là hình nón góc ở đỉnh ϕ2 với:
n
nvn
c
v
c
vt
tc
x
R
β
θ
β
ϕ
1cos
1''sin 0
=
=====
(2.17)
Phương vuông góc với mặt sóng, xác định chiều truyển của bức xạ
Cherenkov, nó được xác định bởi góc θ .
Những bàn luận dựa vào các định luật bảo toàn đưa ra ở trên, không cho ta
những công thức định lượng để tính sự mất năng lượng và động lượng của hạt. Tuy
nhiên nó đã chỉ ra quá trình bức xạ Cherenkov xảy ra trong những môi trường có
chiết suất với n >1, mà không thể xảy ra trong chân không.
Hình 2.2: Mặt sóng của bức xạ Cherenkov
28
CHƯƠNG III
ĐÁNH GIÁ AN TOÀN CÁC THIẾT KẾ CHE CHẮN CỦA THIẾT BỊ
UERL -10 – 15S2
3.1 Tầm của electron trong vật chất [2]
Tầm của electron trong vật chất khó xác định hoàn toàn chính xác bởi có sự
thăng giáng của các hạt mà trong đó do sự mất năng lượng của bức xạ hãm và sự
thay đổi hướng do tán xạ Coulomb. Tầm của electron được xác định bởi tốc độ năng
lượng mất đi suốt theo quãng đường mà nó đi được.
Sự mất năng lượng chỉ mang tính chất thống kê nên ta chỉ xét khái niệm
quãng chạy trung bình R của hạt. Về mặt lý thuyết, sự phụ thuộc quãng chạy R vào
năng lượng E có thể xác định theo biểu thức:
∫=
0
0E
dx
dE
dER (3.1)
Các hạt tích điện khi va chạm với các electron của nguyên tử môi trường có
thể bị lệch hướng. Sự lệch hướng do tán xạ Coulomb đàn hồi của hạt tới với các hạt
nhân đóng vai trò đáng kể và có khi lệch trên 900 (tán xạ ngược). Vì vậy khái niệm
“Quãng chạy thực” của hạt và bề dày hấp thụ hoàn toàn không đồng nhất với nhau.
Nhưng trong thực nghiệm chỉ xác định được bề dày hấp thụ và đại lượng đó gọi là
quãng chạy.
29
Hình 3.1: Tầm electron trong một số vật liệu ứng với giá trị năng lượng tới Eo
Tầm bay của electron được xác định dựa trên phân bố liều hấp thụ electron
để lại khi đi vào vật chất; tại điểm cuối ngoại suy Rp hay chân của đường phân bố
liều RM
Đối với miền năng lượng electron E > 2,5 MeV thì công thức biểu diễn sự
phụ thuộc quãng chạy theo đơn vị bề dày mật độ (mg/cm2) vào năng lượng của
electron (MeV) [2]:
106530 −= ER
Quãng chạy của chùm electron ứng với năng lượng 10 MeV bằng 5,194
g/cm2. Như vậy ứng với chiều dày che chắn của không khí là 5,194/0,00129 = 4026
cm hay 40,26 m. Trong cấu trúc che chắn của hệ thống máy gia tốc, vị trí gần nhất
của các điểm bên ngoài buồng chiếu đến đầu phát là 4,3 m do đó việc che chắn
electron là rất cần thiết.
Electron mang điện tích nên bị mất năng lượng do quá trình ion hoá nguyên
tử môi trường và sau một quãng chạy, nó bị dừng lại trong vật chất. Như vậy vật
liệu với bề dày xác định có thể che chắn hoàn toàn electron. Trong thiết kế che
chắn, vật liệu che chắn sử dụng là bê tông có mật độ là 2,3 g/cm3, khi đó bề dày của
30
bê tông che chắn là: 5,194/2,3=2,258 cm. Trong cấu trúc của hệ thống máy gia tốc,
chiều dày bê tông từ 42cm – 300cm. Do đó với bề dày che chắn chùm electron hầu
như không thể gây liều tại khu vực xung quanh.
3.2 Khả năng phát bức xạ hãm của chùm electron phát từ thiết bị [4]
Chùm electron khi đi qua môi trường vật chất sinh ra các bức xạ hãm, hay
bức xạ Bremstrahlung nên tính toán che chắn phải che chắn cả tia bức xạ này. Khả
năng phát bức xạ hãm của electron phụ thuộc vào bình phương điện tích Z của hạt
nhân môi trường, với mật độ nguyên tử môi trường n và động năng T của electron.
Trên lý thuyết, năng lượng photon phát ra từ quá trình electron bị hãm trong
vật chất có năng lượng từ 0 đến 10 MeV. Tuy nhiên, kết quả tính toán trọng số năng
lượng photon sinh ra trong quá trình electron đi vào môi trường vật chất chiếu xạ
thông thường bằng mô phỏng MCNP cho thấy: phổ photon sinh ra hầu như có năng
lượng dưới 2,6 MeV. (tỷ lệ phát photon ở mức 2,6 MeV so với mức phát cực đại là
1/100), xác xuất phát bức xạ hãm là 2,639 10-3 photon/electron.
Hình 3.2 : Phổ photon sinh ra trong quá trình chiếu xạ
X
ác
su
ất
tư
ơn
g
đố
i
Năng lượng (MeV)
Trong đối tượng chiếu xạ
Trong băng chuyền
31
3.3 Tính toán cơ bản thiết kế che chắn bức xạ cho hệ thống chùm electron [6]
3.3.1 Suất liều giới hạn tại các vị trí làm việc
Suất liều cho phép bên ngoài khối che chắn bức xạ được tính toán theo công thức:
1700***2
*103
nT
MPDPg = (3.2)
Trong đó 103 – giá trị quy đổi mSv qua Svµ
MPD – giới hạn suất liều hàng năm cho phép ứng với từng nhóm cá thể (mSv/năm)
2 – hệ số an toàn
T – hệ số sử dụng phụ thuộc vào mục đích sử dụng của các phòng khác nhau [1,2,3]
n – số ca trực vận hành
1700 – thời gian máy vận hành trong một năm (phút)
Bảng 3.1 Suất liều giới hạn cho các vị trí
Khu vực T n
MPD,
mSv/năm
Pg,
hSv /µ
Khu vực nhân viên vận hành 1 1 20 6
Khu vực bên ngoài thiết kế che chắn 0,12 2 1 1,2
Khu vực hạn chế, chỉ có nhân viên vận hành
được phép tiếp cận trong thời gian ngắn
0,06 1 20 98
3.3.2 Suất liều tại vị trí O
Suất liều gây bởi photon bức xạ hãm được cho trong hình 3.3, phụ thuộc vào
các góc tới của electron. Ứng với năng lượng electron 10 MeV, công suất 15kW,
suất liều tại vị trí chiếu xạ (vị trí được xem như nguồn bức xạ hãm) là 1,5.109
µGy/h.
32
Hình 3.3: Suất liều ứng với các góc sinh ra bởi bức xạ hãm
3.3.3 Các vị trí tính liều xác định trong thiết kế:
Các vị trí tính liều xác định cho từng nhóm đối tượng làm việc được cho
trong Bảng 3.2 và trong các hình 3.4, 3.5, 3.6, 3.7, 3.8, 3.9.
Bảng 3.2 : Các điểm tính toán ứng với từng nhóm làm việc khác nhau
Nhóm
Vị trí tính liều
tương ứng
Nhân viên vận hành 2,6,5,10,13,15
Dân cư xung quanh 3,1,4,11,12
Những người thỉnh thoảng làm việc tại hệ thống thông gió 7,8,9
Su
ất
li
ều
h
ấp
th
ụ
((
ra
d.
h-
1 )
(k
W
.m
-2
)-1
)
Suất liều hấp thụ ((rad.h
-1)(kW
.m
-2) -1)
33
Hình 3.4: Vị trí các điểm 1,2,3,4,5
Hình 3.5: Vị trí các điểm 7,8,9
34
Hình 3.6: Vị trí các điểm 7,10,11,12
Hình 3.7: Vị trí các điểm 5, 6, 13 và các mặt tán xạ S1, S2, S3
35
Hình 3.8: Vị trí các điểm 6, 13 và các mặt tán xạ S4, S5, S3
Hình 3.9: Các mặt tán xạ S6, S7
36
3.3.4 Che chắn nguồn photon phát ra qua quá trình phát bức xạ hãm:
Che chắn photon phát ra từ quá trình phát bức xạ hãm của chùm electron là
khá phức tạp, trong bản thiết kế che chắn được cung cấp bởi Corad-Service (CR)
cũng đã tính toán chiều dày bê tông thích hợp để che chắn bức xạ.
Vật liệu che chắn bức xạ của thiết kế có kết cấu bêtông với mật độ 2,3g/cm3
để làm suy giảm bức xạ hãm đến suất liều cho phép. Công thức cho sự suy giảm:
),( Θ
=
RP
PgK (3.3)
Hệ số K có thể được thông qua TVL (bề dày 1/10) thể hiện việc bức xạ giảm
đi 10 lần khi đi qua bề dày che chắn.
TVL
X
K
−
= 10 (3.4)
Trong đó X – bề dày che chắn (cm)
TVL: số giảm suất liều từ giá trị ),( ΘRP đến dưới giá trị liều giới hạn
Kn lg−= (3.5)
Bề dày che chắn bảo vệ được xác định:
nTVLX *= (3.6)
Với đặc trưng của tương tác bề mặt, thông thường giá trị TVL ở lớp thứ nhất
khác với giá trị của các lớp che chắn tiếp theo. Các giá trị TVL bề mặt và dành cho
các lớp tiếp theo được cho trong Hình 3.10. Với năng lượng electron của thiết bị là
10 MeV, giá trị TVL tương ứng khoảng 40 cm.
37
Hình 3.10: Các giá trị TVL của các vật liệu a: bê tông, b: thép, c chì. Đường đứt nét
là các giá trị của lớp thứ nhất, đường liền là cho các lớp hấp thụ tiếp theo.
Ngoài ra, để thuận tiện hơn ta có thể sử dụng đường cong suy giảm để tìm độ
dày che chắn cần thiết, ví dụ như hình 3.11 hiển thị đường cong suy giảm cho vật
liệu bêtông:
38
Hình 3.11: Đường suy giảm theo chiều dày bê tông che chắn của các nguồn electron
đơn năng: 1- 0.1 MeV; 2 - 0.24 MeV; 3 - 0. MeV 4; 4 - 0.5 MeV; 5 - 1.0 MeV; 7 -
2.0 MeV; 9 - 3.0 MeV; 10 - 4.0 MeV; 11 - 6.0 MeV; 12 - 10.0 MeV và 6 - nguồn
137Cs; 8-nguồn 60Co.
Kết quả tính toán cho che chắn bức xạ bằng bêtông thường với mật độ 2,3g/cm3
được thể hiện trong bảng 3.3.
39
Bảng 3.3: Kết quả tính toán lý thuyết cho che chắn bức xạ truyền qua
Vị
trí
Pg
µGy/h
R
m
Θ
Độ
Po
µGy.(h*m2)
P(R,α )
µGy/h
K
Chiều dày bê
tông che chắn
(cm)
1 1,2 4,5 90 1,5.109 7,41.107 1,62.10-8 300
2 6 5,5 90 1,5.109 4,96.107 1,21.10-7 267
3 6 6,5 90 1,5.109 3,55.107 1,69.10-7 261
4 1,2 9 90 1,5.109 1,85.107 6,48.10-8 277
5 6 7,5 90 1,5.109 2,67.107 2,25.10-7 257
6 6 8 90 1,5.109 2,34.107 2,56.10-7 254
7 6 4,5 70 1,8.109 8,89.107 6,75.10-8 276
7 6 4 90 1,5.108 9,38.106 6,4.10-7 239
8 98 6,5 0 2,20.1010 5,21.108 1,88.10-7 260
9 98 7,5 120 1,5.108 2,67.106 3,68.10-5 173
10 6 5,5 90 1,5.108 4,96.106 1,21.10-6 229
11 1,2 9 90 1,5.108 1,85.106 6,48.10-7 239
12 1,2 4,5 90 1,5.108 7,41.106 1,62.10-7 262
Các giá trị P0 trong cho phép tính suất liều tại các điểm 7, 8 khác với giá trị
tại các điểm khác là do góc tính có thay đổi. Tại các điểm 7,9,10,11,12 giá trị P0
giảm một bậc là do giả thiết phần collimator che chắn ống dẫn chùm electron không
che chắn hết các bức xạ và 10% các bức xạ này bị thất thoát ra bên ngoài.
40
3.3.5 Che chắn photon tán xạ trong khối che chắn
Các tính toán bên trên chỉ áp dụng để che chắn photon truyền đến trực tiếp từ
vị trí phát bức xạ hãm; tuy nhiên, còn một lượng photon tán xạ qua cấu trúc che
chắn của thiết bị (trên các đường ra vào) cũng có đóng góp vào suất liều tại các
điểm trên, phần photon này cũng phải được tính toán để có che chắn thích hợp.
Suất liều cho một lần bức xạ tán xạ Ps1 [Gy/h] ở khoảng cách Rsl từ mặt S1 [m2]
21111 /*),,(*),( sss RSERPP ΘΘΘ= α (3.7)
Trong đó ),( ΘRP -suất liều bức xạ tại bề mặt Sl
R – khoảng cách từ nguồn đến mặt S1 [m]
),,( 1 EsΘΘα - hệ số albedo đối với bức xạ hãm ở năng lượng E đi vào bề mặt S1
dưới một góc 1Θ
Hình 3.12: Sơ đồ tính toán suất liều bức xạ trong lối đi của hệ che chắn bức xạ.
Hệ số albedo ),,( 1 EsΘΘα phụ thuốc vào năng lượng bức xạ hãm đi vào vật
liệu betông ở những góc tán xạ sΘ khác nhau được thể hiện qua hình 3.12. Cho một
tia bức xạ đi vào bề mặt và bị tán xạ, hệ số albedo xác định năng lượng của phổ bức
xạ gần bằng chính xác với một nửa năng lượng electron được sinh ra từ bức xạ ban
đầu.
41
Hình 3.13: Hệ số albeldo ứng với các mức năng lượng của bức xạ hãm theo năng
lượng các góc sΘ cho bêtông (mật độ 2,3g/cm
3).
Năng lượng tán xạ phụ thuộc vào góc tán xạ:
Hình 3.14: Năng lượng tán xạ photon phụ thuộc vào góc tán xạ.
Góc tán xạ θS (độ)
N
ăn
g
lư
ợn
g
ph
ot
on
tá
n
xạ
(
M
eV
)
H
ệ
số
A
lb
ed
o
Năng lượng photon (MeV)
42
Sự suy giảm bức xạ do tán xạ trong vật liệu bêtông có thể được tính toán bởi
hình 3.11 cho năng lượng trong hình 3.14.
Năng lượng photon 3MeV < E < 10MeV có phổ bức xạ tán xạ nằm trong
vùng năng lượng nhỏ (nhỏ hơn 0,5MeV). Có thể tính toán cho che chắn bức xạ do
tán xạ từ đường cong suy giảm với năng lượng 0.5MeV ứng với các góc tán xạ
90>Θ s .
Với hệ số albedo ( )ES ,,22 ΘΘα ứng với mức năng lượng 0,5 MeV với các
góc khác nhau được xác định trong Hình 3.12. Suất liều bức xạ do tán xạ hai lần Ps2
(Gy/h) ở vị trí cách mặt tán xạ S2(m2) khoảng cách Rs2 (m):
)/*(*)/*(*),( 222
2
112 21 SSs
RSRSRPP ααΘ= (3.8)
Chiều dày suy giảm 10 lần (TVL) ứng với photon qua một và hai lần tán xạ được
xác định qua bảng 3.4:
Bảng 3.4: Giá trị TVL cho các photon tán xạ
Vật liệu che chắn
Giá trị TVL (cm)
Tán xạ một lần Tán xạ hai lần
Tường bêtông (2,3g/cm3) 15,8 8,9
Chì (11,3g/cm3) 1,5 0,3
Kết quả tính toán sự suy giảm bức xạ do tán xạ trong lối đi che chắn bức xạ bằng
vật liệu bêtông có mật độ 2,3 g/cm3 qua bảng 3.5:
43
Bảng 3.5: Kết quả tính toán sự suy giảm bức xạ do tán xạ
Nguồn Vị
trí
R
m
Θ
Độ
SΘ
Độ
S
m2
( )ES ,,ΘΘα PS
µGy/h
Pg
µGy/h
K Chiều
dày bê
tông
che
chắn
(cm)
О 1,50E+009
O S1 3,8 1,04E+008
S1 5 9,5 70 140 2 0,0025 4,82E-002 6 8,38E-006 69
S1 S2 8 70 140 2 0,0025 8,12E+003
S2 S3 7 70 105 2 0,0100 3,31E+000
S3 13 9 80 90 5 0,0100 2,04E-003 6
S2 6 3 35 130 2 0,02 3,61E-005 6 1,00E-006 55
O S4 7 7,15E+002 2,34E-005 18
0 S4 6 2,5 35 120 7 0,0040 1,32E-004 6 4,12E-005 60
S4 S5 5,5 35 50 7 0,0150 2,48E+000
S5 13 9 80 90 5 0,0100 1,53E-003 6
O 2,10E+010
O S6 4 1,31E+008 1,00E-001 42
S6 S7 8 90 105 3 0,0015 9,23E+003
S7 S8 6 25 90 13 0,0200 6,67E+001
S8 15 11,5 20 110 4 0,0300 6,05E-002 6
S7 S9 7 25 100 13 0,0200 4,90E+001
S9 15 11 80 100 5,5 0,0110 2,45E-002 6
O* 1,50E+008
O* S7 6 4,17E+006
S7 S8 6 25 90 13 0,0040 6,02E+003
S8 15 11,5 20 110 4 0,0200 3,64E+000 6
S7 S9 7 25 100 13 0,0040 4,42E+003
S9 15 11 80 100 5,5 0,0150 3,01E+000 6
44
Kết quả tính toán che chắn bức xạ do quá trình tán xạ cho thấy tất cả những
điểm ở bên ngoài có suất liều nhỏ hơn giá trị suất liều cho phép.
3.4 Kết quả tính toán phân bố liều bằng phương pháp mô phỏng dùng phần
mềm MCNP (4C)
3.4.1 Giới thiệu chương trình MCNP
Phương pháp Monte Carlo là phương pháp đánh giá các đại lượng có tính chất
xác suất của các quá trình ngẫu nhiên, được dùng để mô phỏng các quá trình vận
chuyển phức tạp và khó mô hình hóa bằng các phương pháp toán học giải tích. Các
biến cố riêng biệt có tính chất xác suất xảy ra trong một quá trình ngẫu nhiên được
mô phỏng một cách tuần tự. Do số phép thử khá lớn nên quá trình mô phỏng được
thực hiện bằng máy tính. Vì vậy phương pháp Monte Carlo còn được gọi là công cụ
toán học định hướng máy tính rất hữu hiệu trong việc mô phỏng các quá trình tương
tác hạt nhân từ lúc hạt sinh ra cho đến khi kết thúc.
Chương trình MCNP được phát triển bởi Phòng Thí nghiệm Quốc gia Los
Alamos - Hoa Kỳ. Chương trình MCNP là một chương trình máy tính đa mục đích
ứng dụng phương pháp Monte Carlo mô phỏng các quá trình vật lý mang tính thống
kê (các quá trình phân rã hạt nhân, tương tác giữa hạt nhân với vật chất, thông
lượng neutron ). MCNP sử dụng các thư viện số liệu hạt nhân của các quá trình
tính toán, gieo số ngẫu nhiên tuân theo các quy luật phân bố, ghi lại sự kiện lịch sử
của một hạt phát ra từ nguồn đến hết thời gian sống của nó. Trong bài luận văn này,
sử dụng phiên bản 4C2 để tính toán suất liều.
3.4.2 Các đặc trưng cơ bản của chương trình MCNP
3.4.2.1 Cấu trúc 1 file input trong chương trình MCNP 4C2:
Phần input của chương trình được xác định như sau :
Khối thông tin (Nếu cần)
Tiêu đề của bài toán
Giới hạn bằng dòng trống
45
Định nghĩa ô mạng (cell cards)
..
Giới hạn bằng dòng trống
Định nghĩa mặt (surface cards)
..
Giới hạn bằng dòng trống
Định nghĩa dữ liệu (Data cards)
.
Số dòng trống (Nếu cần)
(Mode card, material card, source card, tally card,)
Các thẻ ô (Cell cards)
Căn cứ trên hệ tọa độ Descartes, MCNP lấy các mặt biên của một khối vật
chất để mô tả, được gọi là cell. Một cell được xác định bởi toán tử giao (khoảng
trắng), toán tử hợp (:), phần bù các vùng trong không gian (#). Mỗi cell có phần thể
tích nhất định.
Cú pháp : j m d geom params
Hoặc j LIKE n BUT list
Trong đó :
j : chỉ số cell, với 999991 ≤≤ j , nếu cell có sự chuyển đổi tr thì 9991 ≤≤ j .
m : là số vật chất trong cell, số vật chất được thay bằng 0 để chỉ cell trống.
d : là khối lượng riêng của cell (atom/cm3) hoặc (g/cm3).
geom : phần mô tả hình học của cell, gồm chỉ số các mặt tuỳ theo vùng giới hạn.
params : các tham số tuỳ chọn: imp, u, trcl, lat, fill. .
n : tên của một cell khác
list : những thuộc tính cell n khác với cell j.
Cell được định nghĩa trên cell card. Mỗi cell được mô tả bằng những con số,
số vật chất, mật độ vật chất tiếp theo là một dãy số của các mặt liên kết thành một
cell và cell data.
46
Các thẻ mặt (Surfaces cards)
Surface được xác định bằng cách cung cấp các hệ số của phương trình mặt
giải tích hay các thông tin về các điểm đã biết trên mặt. MCNP cung cấp gần 30 loại
dạng mặt cơ bản như mặt phẳng, mặt cầu, mặt trụ,có thể được kết hợp với nhau
thông qua các toán tử giao, hợp và bù.
Cú pháp : j n a list
Trong đó :
j : số mặt 999991 ≤≤ j , dấu "*" cho mặt phản xạ, dấu "+" cho mặt trong suốt.
n : không có hoặc số 0 là không chuyển trục tọa độ TR.
+ nếu n > 0 số mặt bị chuyển trục.
+ nếu n < 0 số mặt j lặp lại mặt n.
a : kí hiệu loại mặt.
list : các hệ số nhập vào
47
Bảng 3.6: Phương trình mô tả các mặt cơ bản trong MCNP
Kí
hiệu
Loại mặt Mô tả Phương trình Nhập thẻ
P
Mặt phẳng
Tổng quát 0=−++ DCzByAx ABCD
PX
Trực giao trục
X
0=− Dx D
PY
Trực giao trục
Y
0=− Dy D
PZ
Trực giao trục
Z
0=− Dz D
SO
S
Mặt cầu
Tâm tại gốc O 02222 =−++ Rzyx R
Tổng quát 0)()()(
2222 =−−+−+− Rzzyyxx
Rzyx
SX
Tâm trên trục
X
0)( 2222 =−++− Rzyxx Rx
SY
Tâm trên trục
Y
0)( 2222 =−+−+ Rzyyx Ry
SZ
Tâm trên trục
Z
0)( 2222 =−−++ Rzzyx Rz
C/X
Mặt trụ
Song song trục
X
0)()( 222 =−−+− Rzzyy Rzy
C/Y
Song song trục
Y
0)()( 222 =−−+− Rzzxx Rzx
C/Z
Song song trục
Z
0)()( 222 =−−+− Ryyxx Ryx
CX Trên trục X 0222 =−+ Rzy R
CY Trên trục Y 0222 =−+ Rzx R
CZ Trên trục Z 0222 =−+ Ryx R
K/X Mặt nón
Song song trục
X
0)()()( 22 =−−−+− xxtzzyy 1
2 ±tzyx
48
Bảng 3.6: Phương trình mô tả các mặt cơ bản trong MCNP (tiếp theo)
Kí
hiệu
Loại mặt Mô tả Phương trình Nhập thẻ
K/Y
Song song trục
Y
0)()()( 22 =−−−+− yytzzxx 1
2 ±tzyx
K/Z
Song song trục
Z
0)()()( 22 =−−−+− zztyyxx 1
2 ±tzyx
KX Trên trục X 0)(22 =−−+ xxtzy 12 ±tx
KY Trên trục Y 0)(22 =−−+ yytzx 12 ±ty
KZ Trên trục Z 0)(22 =−−+ zztyx 12 ±tz
SQ
Ellipsoid
Hyperboloid
Paraboloid
Trục song
song với trục
X, Y hoặc Z
0)(2
)(2)(2
)()()( 222
=+−+
−+−+
−+−+−
GzzF
yyExxD
zzCyyBxxA
zyxGF
EDCBA
GQ
Trụ nón
Ellipsoid
Hyperboloid
Paraboloid
Trục không
song song với
trục X, Y hoặc
Z
0
222
=+++++
++++
KJzHyGxFzx
EyzDxyCzByAx
KJHGF
EDCBA
TX
TY
TZ
Hình xuyến
dạng elip
hoặc tròn có
trục song
với trục X,
Y, Z
01/))()((/)( 222222 =−−−+−+− CAzzyyBxx
01/))()((/)( 222222 =−−−+−+− CAzzxxByy
01/))()((/)( 222222 =−−−+−+− CAyyxxBzz
CBAzyx
CBAzyx
CBAzyx
Các thẻ dữ liệu (Data cards)
Thẻ loại hạt vận chuyển (MODE card).
Thẻ tham số về mặt và ô (IMP:N card).
Thẻ nguồn (SDEF card).
Thẻ vật liệu (Mn card).
49
Thẻ tally (Tally card ).
Số hạt gieo (NPS card).
MODE card
Cú pháp: MODE x1. . . x2
x = N tính cho neutron.
x = P tính cho photon.
x = E tính cho electron.
Mode card mặc định là n nếu vắng mặt.
Có thể tính kết hợp :
Mode N: chỉ tính toán cho neutron
Mode NP: Tính neutron va photon tạo bởi neutron
Mode P: Chỉ tính cho photon
Mode E: Chỉ tính cho electron
Mode PE: Tính cho photon và electron
Mode N P E: Tính cho electron và photon tạo bởi neutron
Thẻ vật liệu Mn Card
Phần này trình bày mô tả vật liệu được lấp đầy trong cell.
Cú pháp : ZAID1 thành phần1 ZAID2 thành phần2
ZAIDi = ZZZAAA.nnX, với ZZZ là nguyên tử số, AAA là nguyên tử số, nn là tiết
diện tương tác, X là loại hạt đến.
o Thành phầni : dương = thành phần nguyên tử của ZAIDi
âm = thành phần trọng lượng của ZAIDi
o Nếu bài toán không liên quan đến neutron, AAA có thể viết 000 và nnX bỏ đi,
MCNP không phân biệt giữa nguyên tố thiên nhiên và đồng vị, chỉ bị ảnh hưởng
bởi mật độ vật liệu.
o Tổng các thành phần bằng 1.
50
Thẻ độ quan trọng IMP: N card
Trong mỗi cell phải có “importance”, sử dụng cho độ quan trọng trong cell.
Độ quan trọng của cell bằng 0 chỉ cell đó ở ngoài thường là 0.
Có thể đưa vào trong khối data cards hoặc sau các mặt trong cell cards.
Thẻ mô tả nguồn: SDEF card
Cú pháp : SDEF source variable = giá trị mô tả
POS = x y z Vị trí nguồn
CEL = số cell Số của ô quy định là nguồn trong mô tả ô
ERG = năng lượng Năng lượng của nguồn
WGT = trọng số Trọng số của nguồn
TME = thời gian Thời gian tính cho nguồn
PAR = loại hạt phát ra n, n p, n p e, p, p e và e.
Tally card
Trong MCNP có nhiều loại tally tính toán khác nhau. Các tally có thể biến đổi
bởi người sử dụng theo nhiều cách khác nhau. Tất cả các tally được chuẩn hóa để
tính trên một hạt phát ra. Có 7 loại tally được đưa ra trong bảng:
Bảng 3.7: Các loại tally tính toán
Kí hiệu tính toán Mô tả
F1:n hoặc F1:p hoặc F1:e Dòng phân tích trên bề mặt
F2:n hoặc F2:p hoặc F2:e Thông lượng mặt trung bình
F4:n hoặc F4:p hoặc F4:e Thông lượng cell trung bình
F5:n hoặc F5:p Thông lượng điểm hay đầu dò
F6:n hoặc F6:n,p hoặc F6:p Năng lượng trung bình để lại trong cell
F7:n Năng lượng mất mát trong phân hạch
F8:p hoặc F8:e hoặc F8:p,e Phân bố tạo xung trong đầu dò
51
Thẻ kết thúc tính toán:
Có hai cách kết thúc:
Đặt trước số lịch sử trong thẻ NPS
Đặt thời gian (tính bằng phút) trong thẻ CTME
3.4.2.2 Ước lượng sai số trong MCNP
Sai số trong chương trình phụ thuộc vào quá trình đóng góp của số lịch sử hạt. Kết
quả của phương pháp MCNP nhận được từ mẫu ngẫu nhiên trên đường đivà định số
xi. Giả sử hàm f(x) là hàm mật độ xác suất được chọn ngẫu nhiên, x là biến ngẫu
nhiên độc lập thì :
∫= dxxxfxE )()( (3.9)
Giá trị trung bình của x được ước lượng là :
∑
=
=
N
i
ixN
x
1
1 (3.10)
Từ giá trị kỳ vọng E(x), phương sai được biểu diễn :
∫ −=−= 2222 ))(()()())(( xExEdxxfxExσ (3.11)
Độ lệch chuẩn được ước lượng là :
∑
=
−≈−
−
=
N
i
i xxxxN
S
1
2222 )(
1
1 (3.12)
∑
=
=
N
i
ixN
x
1
22 1 (3.13)
Độ lệch chuẩn trung bình x được cho bởi xS với :
N
SS x
2
2 = (3.14)
Và
xS tỉ lệ với N
1
, trong đó N là số lịch sử.
Trong MCNP kết quả được đưa ra cho một hạt nguồn cùng với sai số tương đối là
R, các đại lượng cần được đánh giá sai số tương đối R sẽ được tính toán sau mỗi
quá trình mô phỏng bằng phương pháp Monte Carlo (sau mỗi số lịch sử hạt). Trong
MCNP sai số tương đối R được xác định :
52
x
S
R x= (3.15)
Thay (3.1) và (3.14) vào (3.15):
2/1
2
1
1
22/1
2
2 111
−
=
−=
∑
∑
=
=
N
x
x
x
x
N
R
N
i
i
N
i
i
(3.16)
Đối với một kết quả tốt thì R tỉ lệ với
N
1 . Một điều rất quan trọng cần phải chỉ rõ
là giá trị của R chỉ liên quan đến độ chính xác của phương pháp Monte Carlo chứ
không phải là độ chính xác của phương pháp mô phỏng so với kết quả thực nghiệm.
Ý nghĩa của R được đưa ra trong bảng.
Bảng 3.8: Ý nghĩa sai số tương đối R trong MCNP
Giá trị R Đặc trưng của đánh giá
0,5 – 1,0 Không có ý nghĩa
0,2 – 0,5 Có một chút ý nghĩa
0,1 – 0,2 Còn nghi ngờ
< 0,1 Có thể tin cậy
< 0,05 Có thể tin cậy với đầu dò điểm
Để biết chất lượng bài toán, chương trình MCNP đưa ra chỉ số chất lượng FOM cho
bởi công thức:
TR
FOM 2
1
= (3.17)
trong đó T là thời gian tính theo phút.
Hiệu suất tính càng lớn nếu FOM càng lớn. 2R tỉ lệ với
N
1 , T tỉ lệ với N, do đó
FOM gần như không đổi. Như vậy một kết quả tốt nếu FOM gần như không đổi.
53
Do đó để giảm sai số ta có thể tăng T, tức là thời gian tính hoặc giảm hằng số C phụ
thuộc vào cách lấy mẫu và lựa chọn kết quả truy xuất. Trong thực tế thời gian T là
hạn chế phụ thuộc vào khả năng thực hiện của máy tính. Do đó MCNP lựa chọn
cách giảm hằng số C. Có 4 phương pháp giảm sai số:
Phương pháp cắt cụt là phương pháp đơn giản nhất. Phương pháp này tăng
tốc độ tính toán bằng cách cắt cụt các phần của không gian pha mà không ảnh
hưởng quan trọng đến kết quả. Có 2 cách cắt cụt đặc trưng là cắt năng lượng và cắt
thời gian. Cắt năng lượng là bỏ
Các file đính kèm theo tài liệu này:
- tvefile_2013_01_29_0486885823_5819_1869360.pdf